我們知道光刻機非常難造，比原子彈還難百倍，畢竟要在一個指甲蓋上雕刻出一座城市，難度無法想象，而我國的光刻機一直都靠進口荷蘭asml的光刻機，近年來被美國、荷蘭、日本聯(lián)合制裁后，我國買不到最新的EUV光刻機，這也讓我國只能被迫加快國產(chǎn)光刻機的研發(fā)進度。

我國的光刻機到哪個水平了呢？
目前我國光刻機技術(shù)領(lǐng)先的企業(yè)是上海微電子，已經(jīng)實現(xiàn)了90nm光刻機的量產(chǎn)，經(jīng)過曝光后可以生產(chǎn)五六十納米的芯片。多次曝光后可以生產(chǎn)更低制程的芯片，然而良品率也會大大降低，因此需要更低制程的光刻機。

中國光刻機新突破
上海微電子近年來一直在攻克28nm的光刻機，網(wǎng)上也出現(xiàn)不少好消息，畢竟90nm的量產(chǎn)以及是5年前的事，而28nm上海微電子也研究很多年了，相信離量產(chǎn)也不遠(yuǎn)了。

壞消息是美國、荷蘭、日本聯(lián)合一起限制半導(dǎo)體設(shè)備出口，意味著我國芯片行業(yè)很多設(shè)備也買不到了，這就需要我們自己造了。中國光刻機28nm還要多久？我們一起拭目以待吧。